Business

GAS CABINET GAS RACK

VMB VMP

BSGS

Bulk Specialty Gas Supply System

MIXTURE GAS FILLING SYSTEM

MAIN UTILITY & HOOK UP

HBr

판넬 및 배관공사

HEAT WET SCRUBBER

반도체 제조공정 폐가스배출되는 독성, 가연성가스를 배출허용농도 또는 폭발하한계 이하로 제거하기 위한 Pump & Scrubber 간접열로 처리 화재〮폭발〮중도 및 대기오염방지, 가동중단에 따른 손실을 방지하기 위한 시스템

HEAT WET SCRUBBER

CUBE-HW500S

흡ㆍ탈착기

PLASMA SCRUBBER

프라즈마 스크러버(Plasma Scrubber)” 반도체나 디스플레이 공정 등에서 발생하는 유해 가스나 부산물을 고온의 플라즈마(Plasma)를 이용해 분해·정화하는 장치 공정에서 나온 가스를 태워 없애는 ‘가스 정화장치’ 중에서도 가장 고온·고에너지 방식에 속한다. ● 처리 가능한 주요 가스 불소계 가스: NF₃, CF₄, C₂F₆, SF₆ 염소계 가스: Cl₂, HCl 실란계 가스: SiH₄, SiCl₄ 브롬계 가스: HBr 기타 산화성/환원성 가스

C.C.C.S

WASTE WATER TREATMENT SYSTEM

WWT System은 세정장비 등에서 발생되는 폐수를 Acid, Alkali, Organic 등으로 종류에 따라 분리하여 배출시키고 법적 규제치 이하로 폐수를 정화시키는 System이다.

CDA SYSTEM

Clean Dry Air System은 압축공기중에 포함되는 불순물을 기준값 내로 제거하여 압축공기를 공급하는 System으로 생산장비의 Air Valve 동작 및 전송장치 기타 공압기에 사용된다

EXHAUST SYSTEM

Exhaust System은 반도체 생산 설비에서 사용되는 배기가스를 법적 규제치 이하로 처리하여 대기중으로 배출하기 위한 설비이며, Gas 및 Chemical의 종류에 따라서 Acid/ Alkali, Heat/General, Organic, 비상배기 등으로 분리하여 배기 Duct 를 통해 대기 중으로 방출한다

Process Cooling Water System

고순도 냉각수를 Circulation시키고 각 생산설비에서 발생하는 열을 회수하는데 사용하며, 배관 내의 Particle 방지를 위하여 5 Micron Filter를 통과하여 생산장비에 공급된다.